Retraso en fábricas de Intel por retraso en subvenciones UE

Tanto los microprocesadores como las tarjetas gráficas avanzarán con el transcurso del tiempo gracias a las nuevas estructuras desarrolladas y los innovadores métodos de producción. La utilización de nodos con menor cantidad de nanómetros posibilita la creación de circuitos más compactos, lo que generalmente se traduce en la capacidad de ofrecer un desempeño y eficiencia superiores. Tanto TSMC como Samsung e Intel progresan a su propio ritmo para poder desarrollar nodos cada vez más diminutos, aunque el equipo azul ha experimentado un contratiempo. No es inusual hablar de contratiempos con Intel, aunque en esta ocasión se trata de la ampliación de sus instalaciones para procesos de fabricación de 1 nm que en lugar de estar listas para principios de 2027 experimentarían un retraso y estarían listas en 2028 debido a que los incentivos de la UE aún no han sido aprobados.

Hace algunos años, la Legislación SILICON se aprobó en EE.UU con el propósito de impulsar la producción de semiconductores en el país. Esta legislación tenía como objetivo asignar 52.000 millones de dólares a las compañías para financiar la construcción de nuevas fábricas y otros proyectos en mente. Con esta motivación, hubo empresas estadounidenses que intentaron obtener una parte significativa de este financiamiento, pero no tuvieron éxito. Intel fue una de estas compañías, que teóricamente iba a recibir 20.000 millones de dólares por la Legislación SILICON, pero pasaron algunos meses y el dinero no llegó.

La ampliación de las fábricas de Intel de 1 nm se retrasa a 2028, ya que la UE aún no ha aprobado los incentivos

Intel fábrica 14A 10 A

Intel no estaba satisfecha con la respuesta de Estados Unidos al financiar sus proyectos. Por lo tanto, no dudó y se trasladó a Europa, donde iba a recibir una subvención inicial de 6.800 millones de euros para construir fábricas en Magdeburgo, Alemania. La ambición en este proyecto culminó con el plan de edificar dos instalaciones de última generación, la Fábrica 29.1 y 29.2, las cuales se responsabilizarán de producir los circuitos Intel 14A (1,4 nm) e Intel 10A (1 nm). Originalmente, la construcción de estas fábricas estaba programada para 2023, pero luego se pospuso hasta 2024 y actualmente la Autoridad de Competencia de la UE aún no ha concedido las subvenciones que solicita Intel.

Estas equivalen a un financiamiento de 9.900 millones de euros de los 30.000 millones de euros que será el costo total del proyecto. Debido a esto, la construcción se ha retrasado hasta mayo de 2025, lo que significa que las fábricas de 1 nm de Intel no entrarán en funcionamiento hasta finales de 2027 o principios de 2028.

Otro inconveniente es la eliminación del exceso de suelos negros con los que tiene que lidiar Intel, lo que podría demorar aún más la construcción de fábricas

Intel Europa excavación sorpresaIntel Europa excavación sorpresa

Este retraso en las fábricas de 1 nm de Intel plantea un desafío, ya que se espera que estos procesos Intel 14A e Intel 10A se utilicen en circuitos que lanzará Intel para la segunda mitad de 2028. Si el inicio de operaciones de las fábricas se aplaza hasta ese año, podría darse una situación en la que no lleguen a tiempo para fabricar en masa los semiconductores. Lo más preocupante es que estos son los pronósticos más optimistas, ya que la propia Intel ha advertido que tardará entre 4 a 5 años en construir las dos fábricas, lo que implica que la producción comenzaría en 2029 o 2030.

Esto se debe a que además del problema de las subvenciones de la UE, también hay presencia de un exceso de tierras negras (Chernozem) que debe ser removido y reutilizado conforme a la ley. Alemania se encargará de retirar 40 cm de tierra con 80.000 cargamentos de camión, pero Intel tendrá que hacerse cargo del resto.

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