Chips más baratos gracias a la tecnología EUV Hyper-NA de ASML

Uno de los desafíos que ha enfrentado TSMC en estos últimos
tiempos es la tarea de hacer rentable cada nodo o, al menos, cada
mejora de los existentes. Por esta razón, y a diferencia de la estrategia de Intel, no está adquiriendo escáneres EUV High-NA,
precisamente porque consideran que utilizar patrones dobles con EUV
en la actualidad es más económico que la adquisición de los últimos modelos de
ASML. Ahora, en un comunicado específico, los de los Países Bajos
dan otra excelente noticia para todo el
sector
, ya que cualquier escáner con tecnología EUV recibirá
una «actualización», una mejora, que estará centrada en
EUV Hyper-NA, pero, ¿qué significa ASML con
esto?

Habrá dos enfoques y para desgracia de China el impacto que van
a experimentar es aún más significativo de lo que pensaban. El
CTO ya jubilado de la empresa, Martin Van
den Brink
, ha revelado algunos detalles sobre lo que se avecina en los próximos años y hay una gran expectativa con esta
tecnología.

ASML asegura que EUV Hyper-NA es la principal herramienta que tienen
contra el aumento de los costes

ASML-EUV-Hyper-NA

Todo se vuelve cada vez más costoso con cada pequeño avance en la
tarea de reducir los transistores. Desde los fotoresistentes,
pasando por las máscaras, ácidos, obleas, y por supuesto, los
escáneres. Si todo se encarece y el aumento de la densidad,
rendimiento y reducción del consumo no compensa, ¿qué
alternativas tenemos desde la industria?

ASML tiene la respuesta, además, con una propuesta que se
describe como una «plataforma EUV». En efecto, no se trata de nuevos
escáneres, sino de una actualización de los modelos existentes que busca
dos objetivos: aumentar el rendimiento de las versiones
tanto DUV como EUV a 400 o 500 obleas por hora
(estamos entre 200 y 300 actualmente) y lograr una mayor NA con un
costo de inversión mínimo para los fabricantes.

Y esto se lograría mediante esta mejora en los escáneres
actuales (reiteramos que es aplicable tanto para DUV como para EUV) aumentará
o bien el rendimiento (DUV) o bien el rendimiento y
NA (EUV). Por lo tanto, nos centraremos en los
últimos, ya que los primeros solo mejorarán el rendimiento
(disminución de costes frente a China).

Una plataforma, tres sistemas EUV diferentes

EUV-Hyper-NAEUV-Hyper-NA

Dado que se trata de una actualización de los escáneres
existentes, el CTO de ASML declaró que coexistirán, según lo demande cada fabricante, tres tipos de escáneres:

«Estamos proponiendo una hoja de ruta a largo plazo en la que,
digo, dentro de diez años, tendremos una plataforma única de
sistemas EUV de Low-NA, High-NA e Hyper-NA«, mencionó
el antiguo líder de ASML.

Simplificando la idea, Hyper-NA es una herramienta de resolución
hasta los 0,75 NA que se introducirá en los escáneres EUV que
desee el fabricante, y por ende, un EUV Low-NA pasará a ser un
High-NA, mientras que los más recientes High-NA con ella instalada
se convertirán en Hyper-NA según ASML. ¿Cuál es el objetivo y cómo van a
reducir los costes? Pues con un precio considerablemente menor en comparación con un
nuevo escáner, ASML afirma que Hyper-NA permitirá a todos los
fabricantes evadir la complejidad de los patrones
dobles y mucho más de los cuádruples.

De este modo, un fabricante como TSMC puede optar por EUV High-NA
actualizando los escáneres existentes, mientras que Intel podrá apostar
por Hyper-NA con los nuevos EXE:5000. Lo más destacado
es que al lograr una longitud de onda mayor de forma más
sencilla para el grabado, la producción por hora de las obleas
aumenta en todos los casos.

China empieza a vislumbrar un futuro más sombrío debido a este
nuevo avance

ASML-escáner-EUVASML-escáner-EUV

Esto significa que aunque los escáneres DUV, como los que tiene
China, no puedan acceder a EUV por razones obvias,
la actualización de estos significa más obleas por hora al aumentar
también su NA original, por lo tanto, los de Xi Jinping tendrán que
competir con todos sus rivales en nodos maduros con una
producción por escáner más reducida y con patrones dobles en lugar de los
simples de sus competidores occidentales e incluso asiáticos, como
Corea del Sur o Japón.

Esta situación los deja en una posición complicada y solo podrán compensar con un
mayor número de escáneres totales, pero no podrán acceder a los
patrones simples gracias a la mejora de más NA.

Si China ya lo tenía difícil, ahora se encuentra en una situación
aún más complicada, especialmente cuando Imec tampoco colaborará con ellos.
¿Será occidente el ganador de esta batalla por los chips? La balanza parece
inclinarse a nuestro favor gracias a ASML, sin duda alguna.

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